Huawei patentuje novou metodu litografie pro výrobu 5nm SoC

Technologický gigant Huawei společně se státem vlastněnou firmou podali patent na nízko-technologickou metodu, která by mohla nahradit EUV litografický stroj. Tato inovativní metoda by mohla znamenat revoluci v oblasti výroby polovodičů…
